線陣探測(cè)器圖像拼接實(shí)時(shí)校正方法、裝置、設(shè)備和介質(zhì)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910933881.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN110703309B | 公開（公告）日 | 2021-09-17 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110703309B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-09-17 |
| 分類號(hào) | G01T7/00;G01T1/16;G01T1/20 | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 袁鈺函;王鋒 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海奕瑞光電子科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 倪靜 |
| 地址 | 201201 上海市浦東新區(qū)瑞慶路590號(hào)9幢2層202室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N線陣探測(cè)器圖像拼接實(shí)時(shí)校正方法、裝置、設(shè)備和介質(zhì)，通過獲取線陣探測(cè)器實(shí)時(shí)采集的成像數(shù)據(jù)；對(duì)所述成像數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)校正處理；對(duì)處理后的所述成像數(shù)據(jù)中的每一幀中待校正像素點(diǎn)集的像素值進(jìn)行單幀擬合校正。本申請(qǐng)能在不增加硬件等其他成本的情況下，很好的避免PD漏電流、電子電路噪聲、溫度變化及PD模塊制作工藝等因素對(duì)圖像拼接處的影響，不僅能很好的保證校正速度和校正質(zhì)量，還能達(dá)到良好的應(yīng)用效果。 |
