一種反射式數(shù)顯回彈儀
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021523147.6 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212658559U | 公開（公告）日 | 2021-03-05 |
| 申請公布號 | CN212658559U | 申請公布日 | 2021-03-05 |
| 分類號 | G01S17/08(2006.01)I;G01N3/02(2006.01)I;G01N3/52(2006.01)I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 郝冬妮;張全旭;榮博文 | 申請（專利權(quán)）人 | 北京智博聯(lián)科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京融智邦達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 吳強(qiáng) |
| 地址 | 100088北京市西城區(qū)德勝門外大街11號1幢301室（德勝園區(qū)） | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種反射式數(shù)顯回彈儀，其包括回彈儀本體、光源發(fā)射器、光源檢測器和測量電路；所述回彈儀本體上設(shè)置有滑塊；所述滑塊上設(shè)置有反射面；所述光源發(fā)射器用于向所述反射面發(fā)射光束；所述光源檢測器用于接收經(jīng)所述反射面反射后光束；所述測量電路與所述光源檢測器連接，用于對光源檢測器接收到的光束信號進(jìn)行處理進(jìn)而計(jì)算出所述滑塊的位移變化。本申請中的滑塊上設(shè)置有反射面，通過光束的反射，可以非接觸性測量出工作時(shí)滑塊的位移變化，從而大大提高了回彈儀的檢測精度。?? |
