一種等離子體退火設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022876090.4 申請日 -
公開（公告）號 CN213483721U 公開（公告）日 2021-06-18
申請公布號 CN213483721U 申請公布日 2021-06-18
分類號 H01L21/67（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I;C30B33/02（2006.01）I;C30B33/04（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 廖奇泊 申請（專利權）人 淄博綠能芯創(chuàng)電子科技有限公司
代理機構 上海段和段律師事務所 代理人 李佳俊;郭國中
地址 255025山東省淄博市高新區(qū)中潤大道158號MEMS產業(yè)園區(qū)8#樓4樓416
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種等離子體退火設備，包括真空腔室和退火腔室，所述真空腔室位于退火腔室上方，且所述真空腔室與退火腔室之間連通有連通口，所述真空腔室連通有進氣管，所述真空腔室內設置有等離子源，所述等離子源位于進氣管在真空腔室側壁上的管口的下側，且所述真空腔室內還設置有磁場過濾組件，所述退火腔室內設置有用于放置硅片的基臺，所述基臺上設置有下部電極，且所述基臺位于連接口的正下方，且所述退火腔室上還設置有溫度調節(jié)裝置以及壓力調節(jié)組件。實現(xiàn)在低溫條件下對放置在基臺上的硅片柵氧化層進行退火處理，減少了柵氧化層中的缺陷，進而有助于提高退火效果。