供氣裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910577685.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112144022A | 公開(公告)日 | 2020-12-29 |
申請公布號 | CN112144022A | 申請公布日 | 2020-12-29 |
分類號 | C23C14/34;C23C14/06 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 張偉;江振南;楊永雷;見東偉;鄔英 | 申請(專利權(quán))人 | 山西米亞索樂裝備科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 山西米亞索樂裝備科技有限公司 |
地址 | 037000 山西省大同市云州街東延北側(cè)7899號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┮环N供氣裝置,包括至少一個勻氣室和安裝板;所述勻氣室用于將氛圍氣體緩沖后輸出到鍍膜腔,所述勻氣室設(shè)有至少一個進(jìn)氣口和多個用于將氛圍氣體輸送到所述鍍膜腔的出氣孔;所述安裝板用于將所述勻氣室與所述鍍膜腔密封固定到一起。本申請采用勻氣室將氛圍氣體氣流緩沖均勻后再由出氣孔輸送到鍍膜腔內(nèi),緩沖后的氛圍氣體壓力均勻,從出氣孔流出速度趨緊統(tǒng)一。 |
