集成逆導(dǎo)二極管的可控硅瞬態(tài)電壓抑制保護(hù)器件結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110919920.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113380786A | 公開(公告)日 | 2021-09-10 |
申請公布號 | CN113380786A | 申請公布日 | 2021-09-10 |
分類號 | H01L27/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 朱偉東;趙泊然 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇應(yīng)能微電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 無錫市興為專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 屠志力 |
地址 | 213002江蘇省常州市新北區(qū)華山路8號-5號樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種集成逆導(dǎo)二極管的可控硅瞬態(tài)電壓抑制保護(hù)器件結(jié)構(gòu),包括:P型襯底,在P型襯底上生長有N型外延;在N型外延上方左側(cè)制作有N型阱區(qū),在N型阱區(qū)右側(cè)與其相切制作有P型阱區(qū);在N型阱區(qū)內(nèi)部表面制作有第一N+區(qū)以及與第一N+區(qū)右側(cè)相切的第一P+區(qū);在P型阱區(qū)內(nèi)部表面制作有第二N+區(qū)以及與第二N+區(qū)右側(cè)相切的第二P+區(qū);橫跨N型阱區(qū)和P型阱區(qū)交界處制作有一用于低電壓觸發(fā)的第三N+區(qū),用于形成觸發(fā)區(qū);在第三N+區(qū)與N型阱區(qū)中的第一P+區(qū)之間利用導(dǎo)線接有一個(gè)逆導(dǎo)二極管;逆導(dǎo)二極管陽極與用于低電壓觸發(fā)的第三N+區(qū)相連,陰極與N型阱區(qū)中的第一P+區(qū)相連;本發(fā)明既不影響SCR的正向電容又能大大降低逆導(dǎo)二極管電阻。 |
