反光殼體及其制備方法、包括反光殼體的反光一體盔及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011594115.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112684528A | 公開(公告)日 | 2021-04-20 |
申請公布號 | CN112684528A | 申請公布日 | 2021-04-20 |
分類號 | G02B5/122;G02B1/14;G02B1/10;B29D99/00;B29C69/02;A42B3/06 | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 許明旗;梁桂德;黃兆霆;朱慶金;高鴻達(dá);林德鈴 | 申請(專利權(quán))人 | 福建夜光達(dá)科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 362241 福建省泉州市晉江市龍湖埔錦開發(fā)區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了反光殼體及其制備方法、包括反光殼體的反光一體盔及其制備方法,包括保護(hù)層;反光層,所述反光層包括依次連接的PVC基膜層、棱錐層、金屬蒸鍍層;所述保護(hù)層的厚度大于所述反光層的厚度,所述反光層與保護(hù)層通過膠黏劑復(fù)層貼合形成連續(xù)性反光殼體;本申請通過選用由保護(hù)層、反光層兩層膜結(jié)構(gòu)形成連續(xù)性反光殼體,同時保護(hù)層的厚度大于反光層的厚度,并在片材成殼前涂布隔色層和銀油膠黏劑層,提高加工成型階段的膜層受熱均勻程度,進(jìn)一步降低非同質(zhì)屬性材料影響因素,降低反光一體盔加工制造不良率,提升產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性,提高殼體脫模等操作實用性。 |
