減壓滲碳設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122445789.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN215713316U 公開(kāi)(公告)日 2022-02-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN215713316U 申請(qǐng)公布日 2022-02-01
分類號(hào) C23C8/20(2006.01)I;F27D19/00(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 勝俁和彥;左康宇;陳旭 申請(qǐng)(專利權(quán))人 江蘇豐東熱技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 代理人 梁曉婷
地址 224100江蘇省鹽城市大豐市大豐區(qū)經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)南翔西路333號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型的實(shí)施例提供了一種減壓滲碳設(shè)備,涉及熱處理技術(shù)領(lǐng)域,該減壓滲碳設(shè)備包括容置爐體、熱處理室、滲碳?xì)庠?、壓力控制裝置和真空處理裝置,容置爐體具有相互連通的前區(qū)和后區(qū),熱處理室設(shè)置在后區(qū),真空處理裝置與容置爐體連接,滲碳?xì)庠磁c熱處理室連通,壓力控制裝置設(shè)置在熱處理室內(nèi),用于控制熱處理室內(nèi)的壓力至預(yù)設(shè)壓力值,以使工件表面的碳濃度均勻分布。相較于現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型額外設(shè)置有壓力控制裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)熱處理室內(nèi)滲碳?xì)怏w的壓力控制,進(jìn)而能夠控制工件表面的碳濃度,使得工件的表面碳濃度均勻分布,從而避免了產(chǎn)生殘留的奧氏體,進(jìn)而大幅提升了工件的質(zhì)量。