復(fù)合滲碳設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122451394.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215713317U 公開（公告）日 2022-02-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN215713317U 申請(qǐng)公布日 2022-02-01
分類號(hào) C23C8/20（2006.01）I;C21D1/63（2006.01）I;C21D1/773（2006.01）I;C21D9/00（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱小軍;勝俁和彥;蘇陽 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇豐東熱技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 梁曉婷
地址 224100江蘇省鹽城市大豐市大豐區(qū)經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)南翔西路333號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型的實(shí)施例提供了一種復(fù)合滲碳設(shè)備，涉及熱處理技術(shù)領(lǐng)域，該復(fù)合滲碳設(shè)備包括滲碳爐體、加熱室、第一抽真空裝置、碳勢(shì)控制裝置和滲碳?xì)怏w通入裝置，滲碳爐體具有加熱區(qū)與冷卻區(qū)，加熱室設(shè)置在加熱區(qū)，第一抽真空裝置與加熱室連接，滲碳?xì)怏w通入裝置與加熱室連接，碳勢(shì)控制裝置設(shè)置在加熱室內(nèi)，用于在緩冷階段對(duì)加熱室內(nèi)的碳勢(shì)進(jìn)行控制，以使得產(chǎn)品表面的碳濃度均勻分布。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型額外設(shè)置有碳勢(shì)控制裝置，從而能夠控制加熱室內(nèi)的碳勢(shì)，從而能夠在真空滲碳的最后階段進(jìn)行CP控制，可使表面碳濃度不均勻被大幅緩和，從而避免了產(chǎn)生殘留的奧氏體，進(jìn)而大幅提升了產(chǎn)品的質(zhì)量。