ITO基板及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201210443960.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102945694B | 公開(公告)日 | 2015-05-20 |
申請公布號 | CN102945694B | 申請公布日 | 2015-05-20 |
分類號 | H01B5/14(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 柳錫運;江成軍;余俊佼;夏國濤;李章國;李路;李國勇;楊俊峰 | 申請(專利權)人 | 深圳南玻顯示器件科技有限公司 |
代理機構 | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 | 代理人 | 深圳南玻顯示器件科技有限公司 |
地址 | 518000 廣東省深圳市蛇口沿山路33號南玻工業(yè)大廈 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種ITO基板,包括基板和沉積在所述基板的一個表面的第一ITO膜層,所述第一ITO膜層為納米結晶態(tài)。上述ITO基板包括基板和沉積在所述基板的一個表面的第一ITO膜層,第一ITO膜層為納米結晶態(tài)。納米結晶態(tài)的第一ITO膜層,其內部離子呈周期性排列,具有各向異性,而非晶態(tài)的ITO膜層,其內部離子的排列無周期性,具有各向同性。這種ITO基板的納米結晶態(tài)的第一ITO膜層與傳統(tǒng)的非晶態(tài)的ITO膜層相比,電阻率較低。本發(fā)明還提供一種上述ITO基板的制備方法。 |
