對聚酯型聚氨酯泡沫基體進行磁控濺射鍍膜的設(shè)備及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201110147470.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102212791A | 公開(公告)日 | 2011-10-12 |
申請公布號 | CN102212791A | 申請公布日 | 2011-10-12 |
分類號 | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 劉敏;于清;劉偉華;何奮;邵斌;李爽 | 申請(專利權(quán))人 | 愛藍天高新技術(shù)材料(沈陽)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京市聯(lián)德律師事務所 | 代理人 | 易詠梅;劉永全 |
地址 | 116600 遼寧省大連市保稅區(qū)IIIB-6 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種用于對聚酯型聚氨酯泡沫基體進行磁控濺射鍍膜的設(shè)備和方法。其中,所述設(shè)備包括放卷輥、濺射靶和收卷輥,在濺射靶和放卷輥之間以及濺射靶和收卷輥之間設(shè)置有用于傳送泡沫基體的傳送裝置,所述設(shè)備還包括設(shè)置在放卷輥和濺射靶之間的用于加熱泡沫基體的至少一個熱源。該熱源用于在濺射前去除泡沫基體上的全部或絕大部分雜質(zhì),以提高濺射膜層的質(zhì)量。這對于隨后采用電鍍及加熱方法制備所需要的泡沫金屬如泡沫鎳具有重要意義。 |
