一種共聚物、底層膠組合物、雙層體系及其在雙層剝離工藝中的應(yīng)用
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110725188.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113234194A | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113234194A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-10 |
分類號(hào) | C08F222/40(2006.01)I;C08F220/14(2006.01)I;C08F220/20(2006.01)I;C08F8/12(2006.01)I;C09J135/00(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I | 分類 | 有機(jī)高分子化合物;其制備或化學(xué)加工;以其為基料的組合物; |
發(fā)明人 | 李杰;李冰;李海波;姚宇晨;陳昕;王文芳;董棟;張寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京科華微電子材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王麗莎 |
地址 | 101312北京市順義區(qū)竺園路4號(hào)(天竺綜合保稅區(qū)) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N共聚物、底層膠組合物、雙層體系及其在雙層剝離工藝中的應(yīng)用。屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。共聚物由N取代馬來(lái)酰亞胺單體、溶解速率控制單體、丙烯酸酯疏水性單體和丙烯酸羥乙酯親水性單體聚合得到。本申請(qǐng)的共聚物不溶解于傳統(tǒng)光刻膠的溶劑,可以溶解于堿性溶液中,不溶于水,且具有較高的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,并具有較好的化學(xué)穩(wěn)定性和抗刻蝕能力,能夠作為雙層剝離工藝的底層樹脂材料。雙層體系包括頂層光刻膠和共聚物形成的底層膠。雙層體系能夠用于雙層剝離工藝,且只需要單次顯影和單次顯影就可以得到目標(biāo)光刻圖案,大大提高光刻效率。 |
