一種工件架及鍍膜系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010186547.0 申請日 -
公開（公告）號 CN111349910B 公開（公告）日 2022-06-17
申請公布號 CN111349910B 申請公布日 2022-06-17
分類號 C23C16/458（2006.01）I;C23C16/507（2006.01）I;C23C16/509（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄧必龍;鄭利勇 申請（專利權(quán)）人 龍鱗（深圳）新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 -
地址 518000廣東省深圳市坪山區(qū)坪山街道六聯(lián)社區(qū)坪山大道2007號創(chuàng)新廣場裙樓202
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種工件架及鍍膜系統(tǒng)。工件架包括：框架、前擋板、兩個側(cè)板、射頻電極板和接地電極板，兩個側(cè)板和前擋板合圍形成開口背向前擋板的容納腔，側(cè)板上的通孔與容納腔連通；各電極板均設(shè)置于容納腔內(nèi)，且沿框架的高度方向間隔交替連接在框架上。鍍膜系統(tǒng)包括反應(yīng)室，反應(yīng)室內(nèi)設(shè)置有上述工件架，工件架通過共用電極板可拆卸連接在反應(yīng)室內(nèi)。本發(fā)明提供的工件架及鍍膜系統(tǒng)，電場均勻性提高，不需要通過附加裝置便能提高鍍膜均勻性和鍍膜效率，降低鍍膜成本。