一種射頻分控裝置和真空鍍膜設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120154202.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214830619U 公開（公告）日 2021-11-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN214830619U 申請(qǐng)公布日 2021-11-23
分類號(hào) C23C14/22（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄧必龍;程培勇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 龍鱗（深圳）新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 潘登
地址 518000廣東省深圳市坪山區(qū)坪山街道六聯(lián)社區(qū)坪山大道2007號(hào)創(chuàng)新廣場(chǎng)裙樓202
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種射頻分控裝置和真空鍍膜設(shè)備，屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。射頻分控裝置包括射頻連接板、射頻分控板和多個(gè)射頻電極板，多個(gè)射頻電極板分為多組，每組射頻電極板包括一個(gè)正射頻電極板和一個(gè)負(fù)射頻電極板，多組射頻電極板呈間隔排列設(shè)置；射頻分控板連接在所有的正射頻電極板上，射頻連接板設(shè)置在所有的負(fù)射頻電極板上；其中，射頻分控板包括主板、支撐板和多個(gè)支板，主板上設(shè)有射頻饋入點(diǎn)，射頻饋入點(diǎn)與匹配器電連接，支撐板的一側(cè)設(shè)置有主板，另一相對(duì)側(cè)設(shè)有多個(gè)支板，多個(gè)支板與多個(gè)正射頻電極板一一對(duì)應(yīng)電連接。該射頻分控裝置和真空鍍膜設(shè)備避免了各射頻電極板射頻功率分配不均，且具有鍍膜均勻的優(yōu)點(diǎn)。