一種鍍膜電極系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110077026.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN112899661A 公開(kāi)（公告）日 2021-06-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN112899661A 申請(qǐng)公布日 2021-06-04
分類號(hào) C23C16/509;C23C16/458 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄧必龍;鄭利勇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 龍鱗（深圳）新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 潘登
地址 518000 廣東省深圳市坪山區(qū)坪山街道六聯(lián)社區(qū)坪山大道2007號(hào)創(chuàng)新廣場(chǎng)裙樓202
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鍍膜電極系統(tǒng)，其包括第一電極組件，沿豎直方向設(shè)置；多個(gè)第二電極組件，沿豎直方向設(shè)置，且多個(gè)所述第二電極組件繞所述第一電極組件的周向間隔設(shè)置；工件架組件，沿豎直方向設(shè)置在所述第一電極組件和所述第二電極組件之間，待鍍膜的工件沿豎直方向放置在所述工件架組件上；公轉(zhuǎn)組件，用于驅(qū)動(dòng)所述工件架組件繞第一電極組件的中心轉(zhuǎn)動(dòng)；自轉(zhuǎn)組件，與所述工件架組件傳動(dòng)連接，用于驅(qū)動(dòng)所述工件架組件繞自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)。本發(fā)明能夠提高成膜的均勻性和鍍膜效率。