一種工件架及鍍膜系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010195762.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111235534B 公開（公告）日 2022-06-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN111235534B 申請(qǐng)公布日 2022-06-17
分類號(hào) C23C14/32（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄧必龍;鄭利勇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 龍鱗（深圳）新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 -
地址 518000廣東省深圳市坪山區(qū)坪山街道六聯(lián)社區(qū)坪山大道2007號(hào)創(chuàng)新廣場(chǎng)裙樓202
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種工件架及鍍膜系統(tǒng)。其中，工件架包括：框體，包括分別位于框體相對(duì)兩側(cè)的兩個(gè)隔板和位于框體另一側(cè)且連接于兩個(gè)隔板間的前擋板，兩個(gè)隔板和前擋板合圍形成開口背離前擋板的容納腔，前擋板上開設(shè)有與容納腔連通的第一通孔；托盤，用于放置鍍膜工件，托盤設(shè)置在容納腔內(nèi)，且托盤與框體連接。鍍膜系統(tǒng)包括反應(yīng)室，反應(yīng)室內(nèi)設(shè)置有如上的工件架，且反應(yīng)室的相對(duì)兩側(cè)開設(shè)有單體進(jìn)氣口和泵抽口，前擋板正對(duì)單體進(jìn)氣口設(shè)置，容納腔的開口朝向泵抽口設(shè)置。本發(fā)明提供的工件架及鍍膜系統(tǒng)，可以提高工件架內(nèi)部的等離子均勻性，提高鍍膜效率和鍍膜質(zhì)量，降低鍍膜成本。