一種化學(xué)氣相沉積防水鍍膜裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111268590.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114000126A | 公開(公告)日 | 2022-02-01 |
申請公布號 | CN114000126A | 申請公布日 | 2022-02-01 |
分類號 | C23C16/509(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 鄭利勇;鄧必龍 | 申請(專利權(quán))人 | 龍鱗(深圳)新材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
地址 | 518122廣東省深圳市坪山區(qū)錦繡東路22號A棟402 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,具體公開了一種化學(xué)氣相沉積防水鍍膜裝置,包括腔室、水平位鍍膜組件、垂直位鍍膜組件、射頻饋入裝置及電源;水平位鍍膜組件和垂直位鍍膜組件設(shè)置于腔室內(nèi),且水平位鍍膜組件和垂直位鍍膜組件并聯(lián)后與射頻饋入裝置連接,電源與射頻饋入裝置連接。以此結(jié)構(gòu)設(shè)置的化學(xué)氣相沉積防水鍍膜裝置,能夠通過射頻饋入裝置的切換,方便靈活的實現(xiàn)水平位鍍膜組件和垂直位鍍膜組件的單獨作業(yè)或混合組合,繼而滿足工件進行化學(xué)氣相沉積時的多種工作需求,且操作方便,省時省力。 |
