一種用于水熱溫差法晶體生長(zhǎng)的雙層旋轉(zhuǎn)內(nèi)擋板
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011470286.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112481692A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112481692A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-12 |
| 分類號(hào) | C30B7/10(2006.01)I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 易際讓;王曉剛;劉盛浦 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 山東博達(dá)光電有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州中成專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 金祺 |
| 地址 | 271500山東省泰安市東平縣經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于水熱溫差法晶體生長(zhǎng)的雙層旋轉(zhuǎn)內(nèi)擋板，被置于水熱高壓釜的內(nèi)腔中，包括大小相等、且軸心線相重合的上擋板和下?lián)醢澹簧蠐醢?1)與下?lián)醢?3)之間的間距為可調(diào)間距；在上擋板(1)上分別設(shè)有上擋板下降通孔(6?1)、上擋板上升通孔(6?2)；在下?lián)醢?3)上分別設(shè)有下?lián)醢逑陆低?6?3)和下?lián)醢迳仙?6?4)；相對(duì)應(yīng)的上擋板下降通孔(6?1)和下?lián)醢逑陆低?6?3)的正投影與上擋板(1)軸心線的夾角為大于0°～小于90°。本發(fā)明通過(guò)對(duì)雙層擋板的間距調(diào)整和上下板通孔的旋轉(zhuǎn)角度的限定，改變礦化劑液體對(duì)流狀態(tài)，使得高壓釜生長(zhǎng)區(qū)的晶體生長(zhǎng)速率趨于一致，提高晶體的結(jié)晶均勻性。?? |
