一種高放射性核純度的
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110337422.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113144225A | 公開(公告)日 | 2021-07-23 |
申請公布號(hào) | CN113144225A | 申請公布日 | 2021-07-23 |
分類號(hào) | A61K51/04(2006.01)I;A61K51/12(2006.01)I;C01G15/00(2006.01)I;A61K103/00(2006.01)N | 分類 | 醫(yī)學(xué)或獸醫(yī)學(xué);衛(wèi)生學(xué); |
發(fā)明人 | 李桂鋌;毛獻(xiàn)金;陳海濤;陸天鴻;王明芳;黃文濤 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東回旋醫(yī)藥科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州容大知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 劉新年 |
地址 | 510000廣東省廣州市廣州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)東旋路1號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種高放射性核純度的3Ga?GaCl3溶液的制備方法及應(yīng)用。該制備方法通過:以2Zn?Zn(NO3)2溶液為靶材,利用質(zhì)子轟擊3Zn?Zn(NO3)2液體靶,經(jīng)Zn(p,n)Ga核反應(yīng)獲得。本發(fā)明利用質(zhì)子轟擊Zn?Zn(NO3)2液體靶生產(chǎn)正電子核素Ga,經(jīng)分離純化后獲得可用于正電子放射性藥物生產(chǎn)標(biāo)記的GaCl溶液,并且其化學(xué)指標(biāo)與商業(yè)獲得的一致,為我國制定Ga放射性藥物的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)提供了依據(jù)。并且該放射性標(biāo)記物可以直接用于PSMA、FAPI、BBN等標(biāo)記小分子藥物以及標(biāo)記多肽示蹤劑,促進(jìn)了Ga標(biāo)記放射性藥物在廣東地區(qū)的研究與廣泛應(yīng)用。 |
