熱蒸發(fā)坩堝和熱蒸發(fā)裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011427178.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112430799A 公開（公告）日 2021-03-02
申請公布號 CN112430799A 申請公布日 2021-03-02
分類號 C23C14/26(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 倪健;孫志鵬;薛聰 申請（專利權(quán)）人 埃特曼半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 李輝
地址 518051廣東省深圳市南山區(qū)招商街道文竹園社區(qū)荔園路51源華綜合樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種熱蒸發(fā)坩堝和熱蒸發(fā)裝置。該熱蒸發(fā)坩堝包括：絕緣坩堝本體，所述絕緣坩堝本體呈一端敞口一端封閉的筒狀，所述絕緣坩堝本體的側(cè)壁沿周向間隔設(shè)有多個穿線孔，各所述穿線孔均沿所述絕緣坩堝本體的軸向延伸并貫穿所述絕緣坩堝本體的兩端；以及加熱絲，所述加熱絲依次迂回穿過各所述穿線孔。本方案的熱蒸發(fā)坩堝可有效減少熱損耗，提升熱蒸發(fā)效率。??