一種在全室溫下制備低壓雙電層ITO透明薄膜晶體管的工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210597524.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN103107093A 公開（公告）日 2013-05-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN103107093A 申請(qǐng)公布日 2013-05-15
分類號(hào) H01L21/336(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 紀(jì)成友;劉志龍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 青島紅星化工廠有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 266000 山東省青島市李滄區(qū)四流北路43號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種底柵結(jié)構(gòu)的低壓雙電層ITO透明薄膜晶體管的制備工藝，包括：清潔襯底步驟；制備柵極步驟；制備絕緣層步驟；ITO溝道層的沉積步驟；源、漏極的制備步驟。上述制備絕緣層步驟、ITO溝道層的沉積步驟以及源、漏極的制備步驟均在室溫下進(jìn)行。