五級衍射光柵結構及其制備方法、晶圓光刻對準方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610140129.1 申請日 -
公開（公告）號 CN105607435B 公開（公告）日 2017-10-24
申請公布號 CN105607435B 申請公布日 2017-10-24
分類號 G03F9/00(2006.01)I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 張利斌;董立松;蘇曉菁;韋亞一 申請（專利權）人 廣東中科芯發(fā)展科技有限公司
代理機構 北京集佳知識產權代理有限公司 代理人 趙秀芹;王寶筠
地址 100029 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種五級衍射光柵結構及其制備方法、晶圓光刻對準方法。在該五級衍射光柵結構包括晶圓以及形成于晶圓上的光柵圖形結構。光柵圖形結構由光柵精細結構單元組成，光柵精細結構單元的寬度為一個光柵周期，所述光柵精細結構單元在寬度方向上等分為20個區(qū)域，每個區(qū)域上設置有第一圖形結構1st或第二圖形結構2nd；1st和2nd在光柵圖形結構的寬度方向上按照不同順序排列形成不同的光柵精細結構單元，所述光柵精細結構單元為第一光柵精細結構單元、第二光柵精細結構單元或第三光柵精細結構單元。該光柵結構能夠有效提高光柵的衍射光強，增大光刻時在對準光柵之上涂覆材料及其厚度的可選擇范圍，降低對準不確定性范圍，提高精確對準精度。