一種標(biāo)準(zhǔn)單元庫的優(yōu)化方法及系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610173678.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105868449A | 公開(公告)日 | 2016-08-17 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN105868449A | 申請(qǐng)公布日 | 2016-08-17 |
分類號(hào) | G06F17/50(2006.01)I | 分類 | 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù); |
發(fā)明人 | 韋亞一;趙利俊;粟雅娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣東中科芯發(fā)展科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王寶筠 |
地址 | 100029 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種標(biāo)準(zhǔn)單元庫的優(yōu)化方法,在進(jìn)行電路級(jí)別的光學(xué)仿真之前,先進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)單元的版圖布局,進(jìn)而進(jìn)行單一標(biāo)準(zhǔn)單元版圖的光學(xué)仿真,這樣,可以對(duì)標(biāo)準(zhǔn)單元先進(jìn)行光學(xué)仿真的優(yōu)化,減少了后續(xù)優(yōu)化和流片的次數(shù),大大提高了設(shè)計(jì)效率,降低優(yōu)化難度,進(jìn)而提高了設(shè)計(jì)的可靠性,尤其適用于新工藝節(jié)點(diǎn)下的標(biāo)準(zhǔn)單元庫的設(shè)計(jì)和優(yōu)化。 |
