一種去除金屬硅中硼雜質(zhì)的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510146885.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN104773736A 公開(kāi)（公告）日 2015-07-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN104773736A 申請(qǐng)公布日 2015-07-15
分類(lèi)號(hào) C01B33/037(2006.01)I 分類(lèi) 無(wú)機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 劉立新 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 杭州太能硅業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州求是專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 代理人 邱啟旺
地址 311228 浙江省杭州市蕭山臨江高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)經(jīng)六路1287號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種去除硅液中硼雜質(zhì)的方法，該方法先向硅液中噴吹Ti或Zr顆粒；所述Ti與硅液的質(zhì)量之比為0.1-5：100，Zr與硅液的質(zhì)量之比為0.1-5：100。使Ti或Zr進(jìn)入硅液熔體里面，充分與雜質(zhì)硼反應(yīng)生成TiB2或ZrB2，TiB2和ZrB2均比硅液密度大，在硅液中下沉，自然分離。熔液中剩余的Ti或Zr，通過(guò)加入SiO2和Na2O以質(zhì)量比1:1組成的混合物，通過(guò)氧化反應(yīng)去除。然后倒去硅液上的懸浮層，得到去除了硼雜質(zhì)的硅液。該方法硼去除率高、操作簡(jiǎn)單易行，沒(méi)有二次污染。