一種去除金屬硅中硼磷雜質(zhì)的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510146936.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104843710A | 公開(公告)日 | 2015-08-19 |
申請公布號 | CN104843710A | 申請公布日 | 2015-08-19 |
分類號 | C01B33/037(2006.01)I | 分類 | 無機化學; |
發(fā)明人 | 劉立新 | 申請(專利權(quán))人 | 杭州太能硅業(yè)有限公司 |
代理機構(gòu) | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 杭州太能硅業(yè)有限公司 |
地址 | 311228 浙江省杭州市蕭山臨江高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)經(jīng)六路1287號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種去除硅液中硼磷雜質(zhì)的方法,該方法是先將Ar2、H2O、HCL和SiCL4的混合氣體與SiO2和Na2CO3的混合物進行混合,然后將上述氣渣混合物以亞音速噴吹到待處理的硅液中,氣體與硅液中的硼磷反應,達到除硼磷雜質(zhì)的目的。該方法硼和磷去除率高、操作簡單易行,沒有二次污染。 |
