研磨頭氣動裝置及研磨頭

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010695430.5 申請日 -
公開（公告）號 CN111805418B 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN111805418B 申請公布日 2021-09-21
分類號 B24B37/34（2012.01）I;B24B37/11（2012.01）I;B24B37/20（2012.01）I;B24B9/06（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 魯容碩;張月;盧一泓;劉青 申請（專利權(quán)）人 真芯（北京）半導(dǎo)體有限責(zé)任公司
代理機構(gòu) 北京蘭亭信通知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳曉瑜
地址 100029北京市朝陽區(qū)北土城西路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種研磨頭氣動裝置，包括：底部膜片；第一側(cè)壁，與所述底部膜片上表面連接，沿所述底部膜片邊緣呈環(huán)形設(shè)置；第二側(cè)壁，與所述底部膜片上表面連接；所述第二側(cè)壁在所述第一側(cè)壁內(nèi)側(cè)并與所述第一側(cè)壁間隔設(shè)置；分隔膜，與所述第一側(cè)壁和所述第二側(cè)壁連接，以使所述底部膜片、第一側(cè)壁、第二側(cè)壁和所述分隔膜之間形成密閉腔體；頂板，與所述第一側(cè)壁和第二側(cè)壁的頂部連接；所述頂板上設(shè)置有用于氣體通過的通道，以使所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁、分隔膜和頂板之間形成可充氣腔體。本發(fā)明能夠避免相鄰可充氣腔體對邊緣可充氣腔體的干擾，提高對晶圓壓力的控制能力。