一種利用帶有梯形凹槽的非金屬片的金屬熔滴沉積方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410276593.4 申請日 -
公開（公告）號 CN104032302B 公開（公告）日 2016-06-29
申請公布號 CN104032302B 申請公布日 2016-06-29
分類號 C23C26/02(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 杜軍;魏正英;李素麗;盧秉恒 申請（專利權(quán)）人 南京恒宇三維技術(shù)開發(fā)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 代理人 西安交通大學(xué);南京恒宇三維技術(shù)開發(fā)有限公司
地址 710049 陜西省西安市咸寧西路28號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種利用帶有梯形凹槽的非金屬片的金屬熔滴沉積方法，包括以下步驟：先給基板的四個側(cè)面安裝帶有梯形凹槽的非金屬片，并對安裝有帶有梯形凹槽的非金屬片的基板進(jìn)行預(yù)熱，然后將金屬材料加熱至熔融狀態(tài)，熔融狀態(tài)的金屬材料經(jīng)噴嘴形成均勻的金屬熔滴，再在氬氣環(huán)境中，將所述金屬熔滴逐滴滴落到安裝有帶有梯形凹槽的非金屬片的基板表面，同時根據(jù)基板表面的形狀移動所述安裝有帶有梯形凹槽的非金屬片的基板，使金屬熔滴逐點(diǎn)逐層進(jìn)行堆積，同時通過帶有梯形凹槽的非金屬片對各層金屬熔滴的邊緣進(jìn)行阻擋，直至金屬熔滴沉積完畢，再經(jīng)固化收縮后，完成基板表面的金屬熔滴沉積。本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)金屬熔滴沉積到基板表面的精度。