一種光刻膠的清洗方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110879426.9 申請日 -
公開（公告）號 CN113467201A 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN113467201A 申請公布日 2021-10-01
分類號 G03F7/42（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 夏建文;黃明起;葉振文;劉彬燦;易玉璽;劉獻偉 申請（專利權(quán)）人 深圳市化訊半導(dǎo)體材料有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 潘登
地址 518000廣東省深圳市寶安區(qū)福永街道白石廈社區(qū)東區(qū)龍王廟工業(yè)區(qū)6棟101
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種光刻膠的清洗方法。所述清洗方法包括如下步驟：（1）將基板包含光刻膠的一面置于紫外光下老化，得到經(jīng)老化處理的基板；（2）使用光刻膠清洗劑對步驟（1）得到的經(jīng)老化處理的基板進行清洗，完成基板上光刻膠的清洗；所述光刻膠清洗液包括如下重量份數(shù)的組分：季胺氫氧化物1～20份、醇胺1～10份、表面活性劑0.01～10份和溶劑60～98份。本發(fā)明通過采用對包含光刻膠基板的先進行紫外光照射老化處理，再使用光刻膠清洗劑進行清洗的方法，在不增大光刻膠清洗劑堿性且不使用其他腐蝕抑制劑的情況下，完成基板上光刻膠的清洗，得到了表面無光刻膠殘留、無腐蝕的基板。