一種直流磁控濺射鍍膜電源快速可靠助燃電路
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201920760742.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210608955U | 公開(公告)日 | 2020-05-22 |
申請公布號 | CN210608955U | 申請公布日 | 2020-05-22 |
分類號 | H02M7/5387;H02M1/08 | 分類 | 發(fā)電、變電或配電; |
發(fā)明人 | 李民久;陳慶川;蒲世豪;賀巖斌;姜亞南;熊濤;黃雨;邵斌 | 申請(專利權(quán))人 | 中核同創(chuàng)(成都)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 核工業(yè)專利中心 | 代理人 | 劉昕宇 |
地址 | 610041 四川省成都市雙流西南航空港黃荊路5號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型屬于自動控制技術(shù)和電力電子技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種直流磁控濺射鍍膜電源快速可靠助燃電路,通過增加助燃電路,助燃電路輸出的電壓疊加上高頻逆變開關(guān)電源的高頻整流橋輸出的電壓,以達(dá)到助燃啟輝電壓的幅值,當(dāng)啟輝成功后,直流磁控濺射電源輸出電流超過啟輝成功判斷閾值,或者直流磁控濺射電源輸出電壓低于主電源空載電壓判斷閾值,助燃電路停止工作,這時(shí)直流磁控濺射工藝需要的電壓和電流由直流磁控濺射電源的主電路供給;一但輝光熄滅,助燃電路啟動輸出,電源的輸出電壓又達(dá)到助燃啟輝電壓的幅值,確保鍍膜工藝連續(xù)性;減小電弧能量,提高鍍膜質(zhì)量。 |
