一種射頻感應耦合線性離子源
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201811616746.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111385953A | 公開（公告）日 | 2020-07-07 |
| 申請公布號 | CN111385953A | 申請公布日 | 2020-07-07 |
| 分類號 | H05H1/03(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 陳慶川;聶軍偉;黃琪;石連天 | 申請（專利權）人 | 中核同創(chuàng)（成都）科技有限公司 |
| 代理機構 | 核工業(yè)專利中心 | 代理人 | 高安娜 |
| 地址 | 610041四川省成都市雙流西南航空港黃荊路5號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于離子束控制技術領域，具體涉及一種射頻感應耦合線性離子源，包括離子源屏蔽外殼、射頻耦合天線、用于傳輸射頻功率并隔離放電室和天線室的電介質(zhì)耦合窗、用于容納放電等離子體的等離子體放電室側(cè)壁、用于從等離子體放電室中抽取離子束的多柵極離子束引出系統(tǒng)、向放電室內(nèi)提供初始電子和向離子束及基材中提供中和電子的射頻中和器；它能在較大尺寸范圍內(nèi)產(chǎn)生高均勻性大面積窄長線狀離子束流，適用于大面積基材的離子束清洗、刻蝕、薄膜沉積等工藝。?? |
