光學(xué)測量跟蹤儀
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921960732.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211574539U | 公開(公告)日 | 2020-09-25 |
申請公布號 | CN211574539U | 申請公布日 | 2020-09-25 |
分類號 | F16M3/00;F16F15/04;G01C3/00;G01C1/00;G01B11/26;G01B11/02 | 分類 | 工程元件或部件;為產(chǎn)生和保持機(jī)器或設(shè)備的有效運(yùn)行的一般措施;一般絕熱; |
發(fā)明人 | 姜土勝 | 申請(專利權(quán))人 | 綿陽聚強(qiáng)極風(fēng)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 黃冠華 |
地址 | 621000 四川省綿陽市高新區(qū)路南工業(yè)園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及光學(xué)測量跟蹤儀,上部的激光跟蹤測量部分以及下部的底座,激光跟蹤測量部分中設(shè)置有傳感器頭、控制器、電動機(jī)、發(fā)射器,激光跟蹤測量部分還與帶LAN電纜的應(yīng)用計(jì)算機(jī)相連,所述的底座包括間距設(shè)置的上盤和下盤;所述的上盤和下盤之間設(shè)置有緩沖機(jī)構(gòu)A;所述的下盤底部本身設(shè)置有緩沖機(jī)構(gòu)B等。本實(shí)用新型減小外界干擾、降低測量誤差、提高測量精度、降低測量次數(shù)。 |
