一種集成RC吸收結(jié)構(gòu)的MOSFET器件及制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111054711.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113659010A | 公開(公告)日 | 2021-11-16 |
申請公布號 | CN113659010A | 申請公布日 | 2021-11-16 |
分類號 | H01L29/78;H01L23/552;H01L21/336 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉秀梅;殷允超;劉鋒;周祥瑞;費(fèi)國芬 | 申請(專利權(quán))人 | 捷捷微電(無錫)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 無錫科嘉知信專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 顧翰林 |
地址 | 214000 江蘇省無錫市新吳區(qū)菱湖大道200號中國傳感網(wǎng)國際創(chuàng)新園B-221 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種集成RC吸收結(jié)構(gòu)的MOSFET器件及制作方法,包括若干個(gè)相互并聯(lián)的器件元胞單元,器件元胞單元包括第一導(dǎo)電類型襯底及第一導(dǎo)電類型漂移區(qū),第一導(dǎo)電類型漂移區(qū)內(nèi)設(shè)有絕緣深溝槽,絕緣深溝槽內(nèi)填充有溝槽絕緣介質(zhì),溝槽絕緣介質(zhì)上設(shè)有源極導(dǎo)電多晶硅,源極導(dǎo)電多晶硅表面被絕緣介質(zhì)包裹,絕緣介質(zhì)上設(shè)有源極電阻,源極電阻被源極金屬包裹,且與源極金屬歐姆接觸。本發(fā)明在器件的源極和漏極間設(shè)置RC吸收結(jié)構(gòu),使得MOS管在高頻開關(guān)過程中,能抵抗高浪涌電流,同時(shí)能吸收器件開關(guān)過程中的電壓震蕩,提高電壓震蕩dVds/dt耐量,有效防止器件因電壓震蕩dVds/dt導(dǎo)致的失效,故可消除開關(guān)過程中的EMI問題。 |
