一種高可靠性MOSFET集成電路芯片及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111206703.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113948577A | 公開(公告)日 | 2022-01-18 |
申請公布號 | CN113948577A | 申請公布日 | 2022-01-18 |
分類號 | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉秀梅;劉鋒;殷允超;周祥瑞 | 申請(專利權(quán))人 | 捷捷微電(無錫)科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京神州信德知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 朱俊杰 |
地址 | 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)菱湖大道200號中國傳感網(wǎng)國際創(chuàng)新園B-221 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種高可靠性MOSFET集成電路芯片及其制備方法,包括終端區(qū)域;在終端區(qū)域內(nèi)設(shè)置至少一個第一類溝槽(11)和至少兩個第二類溝槽(8);所述第一類溝槽(11)內(nèi)設(shè)有源極導(dǎo)電多晶硅(4);所述第二類溝槽(8)內(nèi)設(shè)有浮空多晶硅(12);增加所述第一類溝槽(11)和所述第二類溝槽(8)數(shù)量以提高終端區(qū)域的耐壓能力,并且逐漸增大與所述第二類溝槽(8)相鄰的平臺區(qū)的寬度。 |
