一種在真空環(huán)境中進(jìn)行離子濺射鍍膜的工藝方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810722529.2 申請日 -
公開（公告）號 CN110670033A 公開（公告）日 2020-01-10
申請公布號 CN110670033A 申請公布日 2020-01-10
分類號 C23C14/35（2006.01） 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 高富堂 申請（專利權(quán)）人 定西中慶玄和玻璃科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 743000 甘肅省定西市安定區(qū)循環(huán)經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)園濱河?xùn)|路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種在真空環(huán)境中進(jìn)行離子濺射鍍膜的工藝方法，包括以下步驟：第一步，打開總電源，啟動(dòng)總控電，真空鍍膜腔室打開后，放入基片，確定基片的位置和靶的位置；第二步，啟動(dòng)機(jī)械泵，啟動(dòng)分子泵；第三步，打開加熱控溫電源關(guān)復(fù)合真空計(jì)，開啟電離真空計(jì)，通氬氣，流量20L/min，打開氣路閥，將流量計(jì)穩(wěn)定后打開離子源，啟動(dòng)清洗；第四步，清洗完成后，按離子源參數(shù)調(diào)節(jié)相反的順序，將參數(shù)歸零，關(guān)閉離子源，將流量計(jì)置于關(guān)閉檔；第五步，調(diào)節(jié)控制電離真空計(jì)示數(shù)1Pa，調(diào)節(jié)直流或者射頻電源到所需功率，開始鍍膜。通過本發(fā)明所述的工藝方法，能夠有效的抑制靶材表面拉弧放電，濺射沉積的穩(wěn)定好，實(shí)用性強(qiáng)，具有廣闊的市場空間。