一種在真空環(huán)境中進(jìn)行離子濺射鍍膜工藝中使用的擋板

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201821046159.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN208414537U 公開（公告）日 2019-01-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN208414537U 申請(qǐng)公布日 2019-01-22
分類號(hào) C23C14/46 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 高富堂 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 定西中慶玄和玻璃科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 743000 甘肅省定西市安定區(qū)循環(huán)經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)園濱河?xùn)|路7號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種在真空環(huán)境中進(jìn)行離子濺射鍍膜工藝中使用的擋板，包括真空鍍膜腔室、等離子發(fā)射裝置、輔助等離子發(fā)射裝置、轉(zhuǎn)盤和靶材，所述等離子發(fā)射裝置設(shè)置于真空鍍膜腔室的一側(cè)，等離子發(fā)射裝置的發(fā)射口對(duì)準(zhǔn)轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤設(shè)置于真空鍍膜腔室的內(nèi)部的底面，靶材設(shè)置于轉(zhuǎn)盤的下底面，其特征在于：還包括擋板，所述擋板固定于等離子發(fā)射裝置內(nèi)部的上頂面上，擋板正對(duì)于靶材設(shè)置，擋板正對(duì)靶材的一面固定一層凹凸不平的糙面層；輔助等離子發(fā)射裝置為四個(gè)，分別固定于真空鍍膜腔室的四個(gè)側(cè)面上，輔助等離子發(fā)射裝置的發(fā)射端口正對(duì)糙面層。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單、靶材的利用率高、實(shí)用性強(qiáng)，具有廣闊的市場空間。