光刻膠涂布吸頭及光刻膠涂布裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520028532.6 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN204347432U 公開（公告）日 2015-05-20
申請公布號(hào) CN204347432U 申請公布日 2015-05-20
分類號(hào) G03F7/16(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 汪良恩;汪曦凌;伍銀輝 申請（專利權(quán)）人 池州市九華恒昌產(chǎn)業(yè)投資有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 安徽安芯電子科技有限公司;安徽安芯電子科技股份有限公司
地址 247100 安徽省池州市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)富安電子信息產(chǎn)業(yè)園10號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種光刻膠涂布吸頭和光刻膠涂布裝置，所述光刻膠涂布吸頭的形狀為凸臺(tái)型，包括：底盤和位于底盤上表面，且與底盤固定連接的托盤，其中，所述托盤的直徑小于待涂布晶圓的直徑，用于放置待涂布晶圓，所述底盤的直徑等于待涂布晶圓的直徑，用于對(duì)所述待涂布晶圓的放置位置進(jìn)行定位。由此可見，本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的光刻膠涂布吸頭在用于光刻膠涂布時(shí)，可以利用所述底盤，通過目視的方式對(duì)待涂布晶圓的放置位置進(jìn)行定位，從而解決了現(xiàn)有技術(shù)中涂布時(shí)不能通過目視的方式，將晶圓的中心和涂布吸頭的中心重合，使得在光刻膠涂布時(shí)，因甩膠過程中各個(gè)位置離心力不均勻而導(dǎo)致光刻膠涂布不均勻，產(chǎn)生邊緣鋸齒等現(xiàn)象的問題。