一種適用于高PPI的精細(xì)金屬掩膜板制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010270343.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111364002B 公開（公告）日 2022-05-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN111364002B 申請(qǐng)公布日 2022-05-24
分類號(hào) C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 隋鑫;宋平;晁亮;尹小江 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 山東奧萊電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 山東舜源聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 276800山東省日照市高新區(qū)創(chuàng)業(yè)服務(wù)中心2號(hào)樓804室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及金屬掩模板制作技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種適用于高PPI的精細(xì)金屬掩膜板制作方法。包括如下制作步驟：（1）根據(jù)高PPI像素的排列，制備與之對(duì)應(yīng)的低PPI精細(xì)金屬掩膜板；（2）使用張網(wǎng)機(jī)將低PPI掩膜張網(wǎng)并焊接到框架上，制成半成品精細(xì)金屬掩膜板，張網(wǎng)完成后對(duì)掩膜進(jìn)行涂覆PI，形成膜層；（3）使用曝光機(jī)對(duì)涂覆PI后的半成品進(jìn)行曝光即圖形定義，再進(jìn)行顯影完成圖形顯現(xiàn)，在原有的大開口內(nèi)加工了小開口,形成高PPI掩膜板開口效果。本發(fā)明先通過(guò)張網(wǎng)簡(jiǎn)單的低PPI掩膜制品，然后再經(jīng)過(guò)涂覆PI和曝光顯影形成較小的高PPI開口，以實(shí)現(xiàn)高PPI掩膜板張網(wǎng)。達(dá)到高PPI的開孔效果，且避免了蝕刻高PPI掩膜時(shí)產(chǎn)生的良率低、原材料薄、蝕刻困難等問(wèn)題。