一種粒子照射裝置以及包括該裝置的粒子治療系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610681470.8 申請日 -
公開（公告）號 CN106110523B 公開（公告）日 2019-04-26
申請公布號 CN106110523B 申請公布日 2019-04-26
分類號 A61B6/00（2006.01）I 分類 醫(yī)學(xué)或獸醫(yī)學(xué)；衛(wèi)生學(xué);
發(fā)明人 馬曉穎; 蒲越虎; 陳杰一; 李永江; 吳超; 賈亞軍 申請（專利權(quán)）人 上海艾普強(qiáng)粒子設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海智信專利代理有限公司 代理人 上海艾普強(qiáng)粒子設(shè)備有限公司
地址 201800 上海市嘉定區(qū)嘉羅公路2019號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種粒子照射裝置，包括：沿著中心軸線傳輸?shù)牧Ｗ邮?，包括第二粒子束和第三粒子束；安裝在第三粒子束的傳輸路徑上的準(zhǔn)直器，第三粒子束通過準(zhǔn)直器形成與腫瘤靶區(qū)對應(yīng)的照野形狀完全一致的二維分布；安裝在第二粒子束的傳輸路徑上的具有圍繞中心軸線同步旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)件、遮擋件和屏蔽件的平坦化裝置；遮擋件將第二粒子束平坦化形成第三粒子束，該屏蔽件和旋轉(zhuǎn)件共同形成一個(gè)屏蔽盒，遮擋件安裝在該屏蔽盒內(nèi)。本發(fā)明還提供一種包括粒子照射裝置的粒子治療系統(tǒng)。本發(fā)明通過平坦化裝置實(shí)現(xiàn)劑量的均勻化分布，只需要簡單的遮擋件即可獲得期望的粒子照射裝置以及包括裝置的粒子治療系統(tǒng)，從而提高照射裝置和治療系統(tǒng)的可靠性，同時(shí)降低成本。