一種等離子體處理裝置及其上電極組件的調(diào)節(jié)方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010967087.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114188206A | 公開(公告)日 | 2022-03-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114188206A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-15 |
分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊金全;黃允文;吳狄;王明明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海元好知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 徐雯瓊;張妍 |
地址 | 201201上海市浦東新區(qū)金橋出口加工區(qū)(南區(qū))泰華路188號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種等離子體處理裝置及其上電極組件的調(diào)節(jié)方法,該裝置包含:真空反應(yīng)腔,其由反應(yīng)腔腔體和設(shè)有通孔的腔體端蓋包圍而成;下電極組件,與通孔中心對(duì)稱;上電極組件,貫穿腔體端蓋的通孔,上電極組件的邊緣與通孔的側(cè)壁之間設(shè)有間距;若干個(gè)加熱組件,用于加熱上電極組件,使上電極組件受熱膨脹直至上電極組件邊緣周向與通孔的側(cè)壁接觸;若干個(gè)支撐組件,用于實(shí)現(xiàn)上電極組件和腔體端蓋的分離和固定,當(dāng)加熱組件處于加熱狀態(tài)時(shí),上電極組件和腔體端蓋可發(fā)生相互位移。其優(yōu)點(diǎn)是:該裝置將加熱組件、支撐組件等相結(jié)合,利用熱脹冷縮的原理,實(shí)現(xiàn)上電極組件的對(duì)中調(diào)節(jié),不需要另外安裝其他復(fù)雜的結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,調(diào)節(jié)方便。 |
