一種靜電裝置、其所在的基片處理系統(tǒng)及其置換清潔方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010960549.0 申請日 -
公開（公告）號 CN114188205A 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號 CN114188205A 申請公布日 2022-03-15
分類號 H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳狄;連增迪;陳煌琳;左濤濤;裴江濤 申請（專利權）人 中微半導體設備（上海）股份有限公司
代理機構 上海元好知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 張妍;周乃鑫
地址 201201上海市浦東新區(qū)金橋出口加工區(qū)（南區(qū)）泰華路188號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種靜電裝置、其所在的基片處理系統(tǒng)及其置換清潔方法，所述基片處理系統(tǒng)包含等離子體處理裝置、傳輸腔及靜電裝置，所述傳輸腔內有傳輸機械手，所述靜電裝置用于產(chǎn)生吸附靜電以吸附所述等離子體處理裝置中的真空反應腔中的邊緣環(huán)，并通過所述傳輸機械手將所述邊緣環(huán)移入或移出所述真空反應腔，實現(xiàn)在不打開所述真空反應腔的情況下置換所述邊緣環(huán)。本發(fā)明結構簡單，操作方便，極大地降低了基片處理系統(tǒng)的維護成本。