一種室溫下AZO導(dǎo)電膜的連續(xù)式磁控濺射鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410241523.5 申請日 -
公開（公告）號 CN103981502A 公開（公告）日 2014-08-13
申請公布號 CN103981502A 申請公布日 2014-08-13
分類號 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉戰(zhàn)合;周鈞;韓匯如;孫斌 申請（專利權(quán)）人 江蘇匯景薄膜科技有限公司
代理機構(gòu) 江蘇銀創(chuàng)律師事務(wù)所 代理人 江蘇匯景薄膜科技有限公司
地址 225312 江蘇省泰州市海陵區(qū)九龍鎮(zhèn)新能源產(chǎn)業(yè)園區(qū)龍園路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種室溫下AZO導(dǎo)電膜的連續(xù)式磁控濺射鍍膜方法，在連續(xù)式磁控濺射設(shè)備上，在合適的鍍膜環(huán)境下，通過鍍膜設(shè)備工藝參數(shù)優(yōu)化，可在玻璃、PET、PI等上進行AZO導(dǎo)電膜的鍍膜，實現(xiàn)室溫下AZO導(dǎo)電膜的連續(xù)式生，本發(fā)明在16～26℃的溫度環(huán)境下實現(xiàn)AZO導(dǎo)電膜的鍍膜過程，無須進行加熱，避免了加熱引起的基材變形甚至扭曲起來，導(dǎo)致薄膜不均勻，可明顯提高AZO薄膜的均勻性，并有效提高AZO薄膜的附著力，同時增加的基材的可選范圍，降低了鍍膜的成本。