一種納米復(fù)合涂層及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010288838.0 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN111304618A 公開(公告)日 2020-06-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN111304618A 申請(qǐng)公布日 2020-06-19
分類號(hào) C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 符國建;祝新發(fā);陸紅妹;孟漪;李偉;牛景銳 申請(qǐng)(專利權(quán))人 上海工具廠有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京高沃律師事務(wù)所 代理人 趙曉琳
地址 200093上海市楊浦區(qū)軍工路1060號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及納米復(fù)合涂層技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種(AlCrTiZrMo)?Six?N納米復(fù)合涂層及其制備方法。本發(fā)明提供的(AlCrTiZrMo)?Six?N納米復(fù)合涂層包括(AlCrTiZrMo)N基體相和Si3N4界面相;所述Si3N4界面相將(AlCrTiZrMo)N基體相分成了若干個(gè)基體相單元,每個(gè)基體相單元外側(cè)被Si3N4界面相環(huán)繞包圍。本發(fā)明通過Si摻雜使得涂層形成界面相Si3N4包裹納米晶(AlCrTiZrMo)N的納米復(fù)合結(jié)構(gòu),界面相阻礙了(AlCrTiZrMo)N納米晶粒沿晶界的滑移,抑制了納米復(fù)合膜的微觀變形,以達(dá)到全面提高硬度和彈性模量的效果。??