一種納米復(fù)合涂層及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010288838.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111304618B | 公開(公告)日 | 2021-12-21 |
申請公布號 | CN111304618B | 申請公布日 | 2021-12-21 |
分類號 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 符國建;祝新發(fā);陸紅妹;孟漪;李偉;牛景銳 | 申請(專利權(quán))人 | 上海工具廠有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京高沃律師事務(wù)所 | 代理人 | 趙曉琳 |
地址 | 200093上海市楊浦區(qū)軍工路1060號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及納米復(fù)合涂層技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種(AlCrTiZrMo)?Six?N納米復(fù)合涂層及其制備方法。本發(fā)明提供的(AlCrTiZrMo)?Six?N納米復(fù)合涂層包括(AlCrTiZrMo)N基體相和Si3N4界面相;所述Si3N4界面相將(AlCrTiZrMo)N基體相分成了若干個基體相單元,每個基體相單元外側(cè)被Si3N4界面相環(huán)繞包圍。本發(fā)明通過Si摻雜使得涂層形成界面相Si3N4包裹納米晶(AlCrTiZrMo)N的納米復(fù)合結(jié)構(gòu),界面相阻礙了(AlCrTiZrMo)N納米晶粒沿晶界的滑移,抑制了納米復(fù)合膜的微觀變形,以達(dá)到全面提高硬度和彈性模量的效果。 |
