一種復(fù)合涂層薄膜及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110849992.5 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN113564526A 公開（公告）日 2021-10-29
申請公布號(hào) CN113564526A 申請公布日 2021-10-29
分類號(hào) C23C14/06（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 符國建;孟漪;祝新發(fā);王詩凱;陸紅妹;李偉;杜浩明 申請（專利權(quán)）人 上海工具廠有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京方圓嘉禾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊金娟
地址 200093上海市楊浦區(qū)軍工路1060號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于材料涂層技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種復(fù)合涂層薄膜及其制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明提供的復(fù)合涂層薄膜，包括交替層疊的ZrN模板層和TiAlSiN調(diào)制層，直接與基體表面接觸的為ZrN模板層；所述TiAlSiN調(diào)制層包括TiAlN相和Si3N4相。本發(fā)明在TiAlSiN調(diào)制層中摻雜Si元素，使調(diào)制層產(chǎn)生同時(shí)具有TiAlN和Si3N4多相態(tài)。調(diào)制層的多相化增加了涂層中各相之間的彈性模量差，也增強(qiáng)了各層之間的交變應(yīng)力場。本發(fā)明提供的復(fù)合涂層薄膜中多個(gè)相鄰的ZrN層和TiAlSiN層之間呈共格外延生長，該結(jié)構(gòu)阻礙了納米晶粒沿晶界的滑移，使復(fù)合涂層進(jìn)一步強(qiáng)化。