引線框架雙面揭膜系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210103610.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114121736A | 公開(公告)日 | 2022-03-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114121736A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-01 |
分類號(hào) | H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 黃偉;馬偉凱;劉松源;李昌文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 新恒匯電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 江鵬飛 |
地址 | 255086山東省淄博市高新區(qū)中潤(rùn)大道187號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于半導(dǎo)體揭膜技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種引線框架雙面揭膜系統(tǒng),包括數(shù)個(gè)自動(dòng)上料裝置、自動(dòng)移料裝置、輸送料裝置和自動(dòng)揭膜裝置,數(shù)個(gè)自動(dòng)上料裝置并排設(shè)置在自動(dòng)移料裝置內(nèi)部,自動(dòng)移料裝置內(nèi)部另一端設(shè)置輸送料裝置的進(jìn)料端,輸送料裝置的出料端延伸至自動(dòng)揭膜裝置,自動(dòng)揭膜裝置的出料口正對(duì)現(xiàn)有蝕刻生產(chǎn)線,自動(dòng)揭膜裝置包括傳送單元和揭膜單元,傳送單元正對(duì)輸送料裝置的出料端,揭膜單元設(shè)置在傳送單元的正上方。本發(fā)明可以自動(dòng)對(duì)引線框架上下表面同時(shí)揭膜,降低工人勞動(dòng)強(qiáng)度,揭膜成功率高,工作效率高。 |
