一種鍍膜機(jī)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110557721.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113151799A | 公開(公告)日 | 2021-07-23 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113151799A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-23 |
分類號(hào) | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/50 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 李俊華;王文;丁家昌;艾其波 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 安徽亦高光電科技有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南昌恒橋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 楊志宇 |
地址 | 237000 安徽省六安市舒城縣杭埠鎮(zhèn)經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)杭埠園區(qū)產(chǎn)投產(chǎn)業(yè)園D3幢(香樟大道與石蘭路交叉口) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種鍍膜機(jī),其特征在于:包括真空室、基片架、鍍前清洗機(jī)、AF前清洗機(jī),所述真空室內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)平臺(tái),所述真空室繞圓周均勻設(shè)置有真空鍍膜腔,所述真空室為高1.8m、直徑3m的圓心結(jié)構(gòu),使得真空室體積處于6?18m3之間。所述真空室為圓形立柱,內(nèi)部下端安裝有360旋轉(zhuǎn)軌道,所述軌道上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)軸承,所述旋轉(zhuǎn)軸承下方設(shè)置有軸承電機(jī),所述軸承電機(jī)與所述旋轉(zhuǎn)軸承控制連接,所述真空室上端設(shè)置有傳輸軌道,所述傳輸軌道根據(jù)設(shè)備鍍膜腔數(shù)量對(duì)應(yīng)分為若干鏈接點(diǎn),所述鏈接點(diǎn)上均設(shè)置有光電感應(yīng)器,本發(fā)明為一種高適應(yīng)性、高效率、高質(zhì)量的新型鍍膜機(jī)。 |
