一種功能膜生產(chǎn)工藝及設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110557699.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113278937A 公開（公告）日 2021-08-20
申請公布號 CN113278937A 申請公布日 2021-08-20
分類號 C23C14/35（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I;G02B1/14（2015.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李俊華;王文;丁家昌;艾其波 申請（專利權(quán)）人 安徽亦高光電科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 南昌恒橋知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 楊志宇
地址 237000安徽省六安市舒城縣杭埠鎮(zhèn)經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)杭埠園區(qū)產(chǎn)投產(chǎn)業(yè)園D3幢（香樟大道與石蘭路交叉口）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種功能膜生產(chǎn)工藝及設(shè)備，通過濺射鍍膜法在基底表面依次鍍高折射率材料膜層和低折射率材料膜層交替設(shè)計疊加構(gòu)成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次鍍有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六層鍍膜層，包括真空室、基片架、鍍前清洗機(jī)、AF前清洗機(jī)，所述真空室內(nèi)設(shè)置有360°旋轉(zhuǎn)平臺，所述真空室繞圓周依次設(shè)置有真空過渡腔體、真空鍍膜腔體，所述真空室通過環(huán)形設(shè)計與出片室、補(bǔ)充臺、出片臺、出片旋轉(zhuǎn)接送片臺、基片架回線臺、進(jìn)片旋轉(zhuǎn)接送片臺、進(jìn)片臺、進(jìn)片室依次相連構(gòu)成循環(huán)回路，該功能膜在材料和設(shè)備的改進(jìn)下使得莫氏硬度能夠達(dá)到大于5.5，現(xiàn)在的蓋板類產(chǎn)品鍍功能膜層的需求越來越多，在同樣光學(xué)要求上硬度越高意味著鍍膜產(chǎn)品更有市場競爭力。