一種去除二甲基硅氧烷環(huán)體中線性硅氧烷的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811184869.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN109384809B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109384809B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-26 |
| 分類(lèi)號(hào) | C07F7/21(2006.01)I | 分類(lèi) | 有機(jī)化學(xué)〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 伊港;孫江;尹金;胡慶超;周玲 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 山東東岳有機(jī)硅材料股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 青島發(fā)思特專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 耿霞 |
| 地址 | 256401山東省淄博市桓臺(tái)縣唐山鎮(zhèn)李寨村段 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明一種去除二甲基硅氧烷環(huán)體中線性硅氧烷的方法，屬于有機(jī)硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，以工業(yè)級(jí)二甲基硅氧烷環(huán)體為原料，控制反應(yīng)溫度，以特定流速依次通過(guò)分子篩床、活性炭過(guò)濾器和超濾膜過(guò)濾器，其中，原料須在分子篩床和活性炭過(guò)濾器中停留，純化后的二甲基硅氧烷環(huán)體水分含量低于5ppm，線性硅氧烷含量低于10ppm。本發(fā)明一種去除二甲基硅氧烷環(huán)體中線性硅氧烷的方法，對(duì)反應(yīng)設(shè)備要求低，國(guó)產(chǎn)設(shè)備完全可以滿(mǎn)足要求，設(shè)備投資?。槐苊饬司s等高耗能過(guò)程；不采用價(jià)格昂貴的絡(luò)合劑或危險(xiǎn)性高的氧化劑，所用的耗材均為市場(chǎng)常用原料，成本低，安全性高；設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便且處理能力大，適合推廣應(yīng)用。?? |
