評(píng)價(jià)晶片清洗效率的方法及實(shí)驗(yàn)裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910720622.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110398500A 公開（公告）日 2019-11-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN110398500A 申請(qǐng)公布日 2019-11-01
分類號(hào) G01N21/94（2006.01）I; G01Q60/24（2010.01）I; H01L21/67（2006.01）I; H01L21/683（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 劉子龍; 胡懷志; 冉運(yùn); 朱順全 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢鼎澤新材料技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢開元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 涂潔
地址 430057 湖北省武漢市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)東荊河路1號(hào)辦公樓6樓608室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于評(píng)價(jià)晶片清洗效率的方法及實(shí)驗(yàn)裝置，解決了現(xiàn)有方法準(zhǔn)確性不高、存在系統(tǒng)誤差和人為誤差的問題。方法為將粘染物溶液滴入旋轉(zhuǎn)中的晶片樣品表面進(jìn)行沾染實(shí)驗(yàn)，獲得表面帶有缺陷的沾染晶片樣品；使用形貌表征儀器對(duì)沾染晶片樣品表面進(jìn)行形貌分析，獲得該沾染晶片樣品表面的清洗前缺陷數(shù)；將清洗液滴入旋轉(zhuǎn)中的沾染晶片樣品表面進(jìn)行清洗實(shí)驗(yàn)，得到清洗晶片樣品；使用形貌表征儀器對(duì)清洗晶片樣品再次進(jìn)行形貌分析，獲得該沾染晶片樣品表面的清洗后缺陷數(shù)；通過以下公式(A)進(jìn)行清洗效率的計(jì)算，使用專用的實(shí)驗(yàn)裝置進(jìn)行沾染實(shí)驗(yàn)和清洗實(shí)驗(yàn)，具有測(cè)量方法簡(jiǎn)單可靠、準(zhǔn)確性高、能為清洗液配方研究提供有力指導(dǎo)。