一種高效、高精度硅片拋光組合物及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111420369.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114032033A 公開（公告）日 2022-02-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN114032033A 申請(qǐng)公布日 2022-02-11
分類號(hào) C09G1/02（2006.01）I;H01L21/304（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 王慶偉;卞鵬程;崔曉坤;徐賀;李國(guó)慶;王永東;王瑞芹 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 萬華化學(xué)集團(tuán)電子材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 264006山東省煙臺(tái)市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)北京中路50號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高效、高精度硅片拋光組合物及其制備方法和應(yīng)用，所述硅片拋光組合物以二氧化硅水溶膠為主拋光磨料，并添加有納米氧化亞硅粒子作為輔助磨料。通過在堿性二氧化硅水溶膠中加入納米級(jí)氧化亞硅顆粒，能夠?qū)崿F(xiàn)高硅片拋光速率及拋光后硅片表面低的表面粗糙度，與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有顯著優(yōu)勢(shì)。