一種高效、高精度硅片拋光組合物及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111420369.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114032033A | 公開(公告)日 | 2022-02-11 |
申請公布號 | CN114032033A | 申請公布日 | 2022-02-11 |
分類號 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 王慶偉;卞鵬程;崔曉坤;徐賀;李國慶;王永東;王瑞芹 | 申請(專利權(quán))人 | 萬華化學集團電子材料有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 264006山東省煙臺市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)北京中路50號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種高效、高精度硅片拋光組合物及其制備方法和應(yīng)用,所述硅片拋光組合物以二氧化硅水溶膠為主拋光磨料,并添加有納米氧化亞硅粒子作為輔助磨料。通過在堿性二氧化硅水溶膠中加入納米級氧化亞硅顆粒,能夠?qū)崿F(xiàn)高硅片拋光速率及拋光后硅片表面低的表面粗糙度,與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有顯著優(yōu)勢。 |
