一種化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011232817.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112318363B 公開（公告）日 2022-03-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN112318363B 申請(qǐng)公布日 2022-03-11
分類號(hào) B24B37/24（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 羅建勛;方璞;楊洗;孫燁;王凱 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 萬華化學(xué)集團(tuán)電子材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 264006山東省煙臺(tái)市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)北京中路50號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于化學(xué)機(jī)械拋光墊拋光層及其制備方法，其通過包含異氰酸酯預(yù)聚物、固化劑以及功能填料原料制備得到，預(yù)聚物是由二異氰酸酯和聚四氫呋喃多元醇分兩步反應(yīng)得到，固化劑組分是胺類交聯(lián)劑，功能填料是已膨脹聚合物空心微球。由其制備的拋光層具有彈性模量隨溫度變化穩(wěn)定、孔隙率高（微孔體積分?jǐn)?shù)高）以及密度均勻的優(yōu)點(diǎn)。